- ▸火力発電所のFGD石灰石-石膏スラリーには5~15%の固形粒子(硬度3~7モース)とフッ化物イオンF⁻(50~200 mg/L)が含まれ、従来のSSiCメイティングリングはフッ化物の作用で粒界腐食を受ける(SiC + 4HF → SiF₄↑ + CH₄↑)、シール面は1~2か月で亀裂が発生する
- ▸解決策:カーボングラファイトをフラン樹脂含浸に切り替え(HF腐食に耐性、pH0~14で安定)、メイティングリングをセメント硬質合金WC-Niに変更(シリコン粒界腐食のリスクなし)
- ▸構造はカートリッジ二重面+PLAN 32外部洗浄(水処理水0.6 MPa、1.5 m³/h)+PLAN 64漏れ監視を選択し、粒子のシール室侵入を防止
- ▸Huahao Sealingは660 MWユニット向けに12台のFGDスラリー循環ポンプを供給し、26か月連続運転で漏れなし、メンテナンス間隔を45日から18か月に延長
火力発電所の湿式排煙脱硫(FGD)システムの石灰石-石膏スラリー循環ポンプは脱硫システムの中核設備の一つであり、そのシールの信頼性はユニットの稼働率に直接影響します。FGDスラリーにはCaSO₄·2H₂O(石膏二水和物、硬度3モース)、未反応CaCO₃(硬度3モース)、SiO₂粉塵(硬度7モース)、および石炭中のCaF₂がH₂SO₄と反応して発生する微量のHF(フッ化水素酸)が含まれ、強い摩耗とフッ化物特有の腐食が複合的に作用し、従来のシリコンカーバイドシールは極めて短期間で破損します。Huahao Sealingが300 MW、600 MW、1000 MW級の複数の火力発電ユニットでの適用経験に基づき、本稿ではFGD用途向けカーボングラファイトシールの選定について紹介します。
1. サービス特性
1.1 典型的なスラリーのパラメータ
- 固形分:5~15%(石膏結晶+石灰石粒子、粒径10~200 μm)
- フッ化物イオン(F⁻):50~200 mg/L、pH4.5~6.0(弱酸性、HFはHF、F⁻、(HF)₂⁻の重合形態で共存)
- 塩化物イオン(Cl⁻):10000~50000 mg/L(スラリー循環による濃縮)
- 作動温度:50~65℃(大気飽和温度)
- ポンプ回転数:590~740 rpm(大型低速遠心ポンプ)
1.2 破損モード分析
FGDサービスにおけるシリコンカーバイドシールの破損統計:
1.フッ化物イオンによる粒界腐食(60%):SSiC中のSiO₂粒界相および遊離シリコンがHFと反応:
- SiO₂ + 6HF → H₂SiF₆ + 2H₂O(フルオロシリシン酸、水溶性)
- Si(遊離シリコン) + 4HF → SiF₄↑ + 2H₂↑
結果:シリコンカーバイド表面に「ピッティング」腐食が発生し、粒界剥離→全体破断に至る。
2.粒子による三体摩耗(25%):石膏結晶がシール面に入り込み三体摩耗を形成、シール面にV字溝が発生し漏れが増加。
3.スプリング室の閉塞(10%):スプリング室およびシール面外径側にスラリー粒子が堆積し、スプリングの弾性を失いシール面の密着不良を招く。
4.Oリングの膨潤(5%):高塩素スラリー中でFKM Oリングの膨潤率が15%を超え、補償機能が失われる。
2. 材料選定
2.1 フッ化物耐性カーボングラファイト
フッ化物イオン腐食はFGDサービスにおける核心的課題です。Huahao SealingのM230F-フラン耐フッ化物グラファイトは以下の特徴を持ちます:
- 基材:中粒構造グラファイト(粒径30 μm、耐衝撃性あり)
- 含浸剤:フルフリルアルコールフラン樹脂(炭素含有率70%、硬化後にC=C二重結合なし、HF、HCl、H₂SO₄などの非酸化性酸に耐性あり)
- HF耐性性能:20% HF、60℃で30日間浸漬後の重量減少率は0.05%未満(一般的な樹脂含浸グラファイトの重量減少3.8%と比較)
- 機械的強度:圧縮強度280 MPa、曲げ強度65 MPa(一般的な樹脂グラファイトより50%高い)
- ショア硬度:HS 85(炭化ケイ素の耐摩耗性レベルに相当)
2.2 相手材(重要な改善点!)
シリコン系材料(SSiC、RBSiC、Si₃N₄)は厳禁です — フッ化物イオン腐食は不可逆的です。相手リングの選定は以下の通りです:
- WC-Niセメンタイトカーバイド(YG8タイプ、Niバインダ相8%、WC 92%)
- HF耐性:WCはHFと反応せず、Niバインダ相は50℃以下の弱酸性環境で極めて安定
- 硬度:HRA 91、粒子耐摩耗性は炭化ケイ素より優れる
- 注意:高温(200℃以上)強酸性環境は避けること。Niバインダ相が腐食する可能性あり。FGDサービスの60℃では完全に安全
2.3 補助シール材
- Oリング:EPDM(エチレンプロピレンジエンモノマー、HF+高塩素+弱酸に耐性あり、推奨はDuPont Vamac GLS)、またはFFKM(Kalrez 4079、極端な化学薬品に耐性あり)
- 金属部品:デュプレックス鋼2205(UNS S31803、50000 mg/L Cl⁻によるピッティング耐性あり)またはハステロイC276
- スプリング:ハステロイC276(通常の316Lは高塩素含有スラリー中で3ヶ月で応力腐食割れ発生)
3. 構造設計とフラッシング計画
3.1 カートリッジ二重面構造
FGDスラリーサービスには単一面シールは厳禁です(粒子が直接シール面に入り込み、2週間で摩耗します)。標準的な解決策はカートリッジ二重面(タンデムシリーズタイプ)です:
- 内側(大気側):M230Fカーボングラファイト × WC-Ni、フラッシング水(粒子を含まない清浄水)と接触
- 外側(媒体側):M230Fカーボングラファイト × WC-Ni、プロセススラリーと接触
- 一体型スプリング:外部大型スプリング(内蔵スプリングは詰まりやすいため、外部タイプは媒体に接触しません)
- カートリッジタイプの一体設置で、ポンプを分解せずにシール交換可能、メンテナンス時間を24時間から4時間に短縮
3.2 APIフラッシング計画 PLAN 32 + PLAN 64
PLAN 32(外部フラッシング) — 粒子がシール室に侵入するのを防ぐ鍵です:
- フラッシング水源:FGDプロセスメイクアップ水(ろ過済み、SS <1 mg/L、粒子径 <5 μm)
- フラッシング圧力:シール室圧力より0.1〜0.2 MPa高い(通常0.5〜0.7 MPa)
- フラッシング流量:1.5〜3.0 m³/h(80〜150 mm径ポンプ)
- フラッシング方法:シール室に接線方向注入し、渦流を形成して粒子を洗い流し、堆積を防止
PLAN 64(漏れ監視+緊急フラッシング):
- 内側シールの漏れ口は圧力スイッチに接続され、漏れ圧力が0.1 MPa超または流量が20 L/h超でDCSアラーム発報
- 漏れ口は緊急フラッシング用インターフェースに切り替え可能(高圧プロセス水に接続)、内側シール故障時に緊急注入し、スラリーの軸受箱侵入を防止
3.3 粒子堆積防止設計
- シール室に傾斜したディフレクター(45°)を設置し、粒子は傾斜に沿って沈降し、シール面外径に堆積しないようにする
- シール面外径側には「砂止めリップ」(PTFE薄膜+EPDM支持)を設け、大きな粒子(>20 μm)が直接シール面に衝突するのを防止
- スプリング座には「自己洗浄孔」(φ8穴×4)を設け、フラッシング水がスプリング座の通路を通過し、堆積した粒子を洗い流す
4. Huahao Sealing ケーススタディ
ある省エネルギーグループの2×660 MW超々臨界ユニットにおいて、FGDシステムの各ユニットは6台のスラリー循環ポンプ(流量8800 m³/h、揚程22 m、回転数590 rpm、シール径160 mm)を装備していましたが、当初は輸入ブランドのSSiC × SSiC+内蔵スプリング単一面シールに以下の問題がありました。
1.SSiCのメイティングリングがフッ化物腐食を受け、平均寿命は42日(最短23日)、分解検査でシール面に多数のピッティングと局所的な破断を確認
2.ポンプ1台あたり年間約8回のシール交換が必要で、12台分の予備部品費用およびメンテナンス費用は約780万元
3.シール漏れによりスラリーがモーターの巻線に飛散し、2019年に2件のモーター焼損事故発生(損失約180万元)
2020年にHuahao SealingのM230Fフラン樹脂含浸カーボングラファイト × WC-Niセメンタイトカーバイド+カートリッジ式両面シール+PLAN 32(プロセス水0.6 MPa、2 m³/h)+PLAN 64+2205デュプレックスステンレス金属部品+EPDM Oリングのソリューションに切り替えた後は、
- 初号機は連続運転26ヶ月(2020年3月~2022年5月)で漏れなし、計画保全による分解点検でシール面摩耗は0.12 mm(摩耗率0.00046 mm/100 h)
- 平均シール寿命は22ヶ月(+1471%)、42日から大幅に改善
- 年間の予備部品費用およびメンテナンス費用は780万元から約80万元に削減、累計で2000万元以上のコスト削減
- モーター焼損事故はゼロとなり、ユニットの稼働率は92.3%から98.7%に向上
選定のポイントは以下の通りです。フッ化物イオン濃度がメイティング材質を決定(F⁻ >50 mg/Lではシリコン系材料禁止、WCに切替)、固形粒子含有量が洗浄計画を決定(>10%はPLAN 32外部洗浄必須)、塩素濃度が金属材質グレードを決定(>30000 mg/Lは2205デュプレックスステンレスまたはC276を選択)。
